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半導体製造工程での検査機の詳細

半導体製造工程での検査機の詳細

1. KLA

  • ウェーハ表面検査装置: 光学検査、散乱光検査、原子間力顕微鏡 (AFM) 検査など、様々な技術を用いた検査装置を提供。
  • 欠陥検査装置: 光学検査、電子ビーム検査、X線検査など、微細な欠陥を検出する検査装置を提供。
  • パターン検査装置: 光学検査、電子ビーム検査、レーザー検査など、パターン形状の精度を検査する装置を提供。

2. アドバンテスト

  • ウェーハテスト装置: 電気テスト、パラメータテスト、機能テストなど、様々なテストを実施する装置を提供。
  • パッケージテスト装置: 電気テスト、バーンインテスト、高温動作テストなど、パッケージされた半導体デバイスの信頼性を検査する装置を提供。
  • ファンクショントレーサー: 半導体デバイスの動作をトレースし、故障箇所を特定する装置を提供。

3. 日立ハイテク

  • エッチング装置: プラズマエッチング、ドライエッチングなど、様々なエッチング技術を用いた装置を提供。
  • 計測装置: 光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡 (SEM)、原子力顕微鏡 (AFM) など、半導体材料やデバイスの特性を測定する装置を提供。
  • 外観検査装置: 光学検査、レーザー検査など、半導体デバイスの外観を検査する装置を提供。

4. テラダイン

  • 自動テスト装置 (ATE): デジタルIC、アナログIC、メモリなど、様々な半導体デバイスのテストを実施する装置を提供。
  • メモリテスト装置: DRAM、NANDフラッシュメモリなど、様々なメモリデバイスのテストを実施する装置を提供。

5. 東京エレクトロン

  • リソグラフィ装置: 光学リソグラフィ、EUVリソグラフィなど、微細なパターンを形成する装置を提供。
  • 洗浄装置: ウェーハ表面の洗浄、エッチング後の残渣除去など、様々な洗浄プロセスに対応する装置を提供。
  • 検査装置: 光学検査、電気検査など、半導体製造工程の様々な工程で用いられる検査装置を提供。

技術

  • 光学検査
    • 光学顕微鏡やレーザースキャナーなどを用いて、ウェーハ表面やパターンの欠陥を検査する。
    • 高精度な検査が可能だが、微細化に伴い検査の難易度が向上している。
    • 代表的な技術: 明視野検査、暗視野検査、位相差検査、干渉検査
  • 電気検査
    • 電気信号を利用して、半導体デバイスの機能や特性を検査する。
    • 高速な検査が可能だが、複雑な回路の検査には課題がある。
    • 代表的な技術: DC特性検査、AC特性検査、ファンクショントest
  • 電子ビーム検査
    • 電子ビームを利用して、ウェーハ表面や内部の欠陥を検査する。
    • 高精度な検査が可能だが、検査コストが高い。
    • 代表的な技術: SEM (走査型電子顕微鏡)、FIB (集束イオンビーム)
  • X線検査
    • X線を利用して、ウェーハ内部の構造や欠陥を検査する。
    • 内部構造の検査に有効だが、検査速度が遅い。
    • 代表的な技術: X線透過検査、X線CT検査

メーカー

  • 株式会社レーザーテック: レーザーを用いた検査装置を得意とする。
  • 株式会社ディスコ: 半導体製造装置の洗浄装置や検査装置などを製造。
  • 株式会社アズビル: 半導体製造装置の計測・制御装置などを製造。
  • 株式会社ジェイテクト: 半導体製造装置の搬送装置などを製造。
  • 株式会社SCREENホールディングス: 半導体製造装置の洗浄装置や検査装置などを製造。
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メガファブとミニファブ

メガファブとミニファブ

メガファブミニファブは、半導体製造工場の種類を指す言葉です。それぞれの特徴は以下の通りです。

メガファブ

  • 大規模な半導体製造工場
  • 最新の製造装置を導入
  • 8インチ、12インチ、300mmなどの大型ウエハーを用いる
  • 大量生産に適している
  • 投資額が巨大
  • 稼働率が低いと損失が大きくなる
  • 主に最先端の半導体製造に用いられる

ミニファブ

  • 小規模な半導体製造工場
  • 比較的古い製造装置を用いる
  • 6インチ、8インチなどの小型ウエハーを用いる
  • 少量生産や特殊な半導体製造に適している
  • 投資額が比較的小さい
  • 稼働率の変動に強い
  • 特殊なニーズに対応できる
項目メガファブミニファブ
規模大規模小規模
製造装置最新比較的古い
ウエハーサイズ8インチ、12インチ、300mm6インチ、8インチ
適した用途大量生産少量生産、特殊な半導体製造
投資額巨大比較的小さい
稼働率低い場合、損失が大きくなる変動に強い
用途最先端の半導体製造特殊なニーズに対応

メガファブとミニファブの今後

近年、半導体製造の需要増加に伴い、メガファブの建設が活発に進んでいます。しかし、最先端の半導体製造以外はミニファブの方が有利な場合も多く、今後も両方の存在が重要になると考えられます。

参考資料

  • SEMI
  • 日経クロステック(xTECH): 半導体製造装置、日本勢が世界首位を維持
  • 経済産業省: 半導体産業ビジョン2030
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企業関連 未分類

エヌビディア(NVIDIA)会社概要

エヌビディア(NVIDIA)会社概要

正式名称: エヌビディア合同会社 英文名称: NVIDIA Corporation 日本本社所在地: 東京都港区 設立: 1993年 従業員数: 約22,000人 (2023年12月現在) 代表者: ジェンスン・フアン (CEO)

事業内容

エヌビデアは、グラフィックス処理装置(GPU)や人工知能(AI)関連製品を開発・販売する企業です。

主要製品・サービス

  • GeForce® シリーズ: ゲーミング向けGPU
  • Quadro® シリーズ: プロフェッショナル向けGPU
  • Tesla® シリーズ: データセンター向けGPU
  • Jetson™ シリーズ: エッジデバイス向けAIモジュール
  • DRIVE™ シリーズ: 自動運転向けAIプラットフォーム
  • DGX™ システム: AI開発向けサーバー

財務状況

エヌビデアは、近年急成長を遂げている企業であり、非常に堅調な財務状況を誇っています。

2023年12月期業績

  • 売上高: 270億米ドル
  • 営業利益: 108億米ドル
  • 純利益: 88億米ドル

上場状況

  • ナスダック市場に上場 (NASDAQ: NVDA)

株価

  • 2023年12月20日現在: 約220米ドル

主要株主

  • 機関投資家: 約70%
  • 個人投資家: 約30%

競合企業

  • AMD
  • インテル
  • サムスン電子
  • TSMC

エヌビデアの強み

  • GPU分野における圧倒的な技術力
  • 豊富なソフトウェア開発力
  • 強固なブランド力
  • AI分野における高い成長率

エヌビデアの課題

  • 競争激化
  • 供給不足
  • 値動きリスク

エヌビデアは、今後もGPUとAI分野を牽引していく存在であり、その影響力はますます大きくなっていくでしょう。

参考資料

項目エヌビデアAMD
本社所在地アメリカアメリカ
設立1993年1969年
従業員数約22,000人約15,000人
事業内容GPU、AICPU、GPU
主要製品GeForce® シリーズ、Quadro® シリーズRyzen™ シリーズ、Radeon™ シリーズ
財務状況非常に堅調改善傾向
上場状況ナスダックナスダック
強みGPU分野における圧倒的な技術力CPU分野における競争力
課題競争激化、供給不足技術力向上、収益性改善